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在半導體工業(yè)中，薄膜技術廣泛應用于集成電路、光電器件以及傳感器等領域。薄膜的厚度是影響器件性能和可靠性的關鍵因素之一，因此，精準的薄膜厚度測量至關重要。薄膜厚度測量儀器作為半導體制造過程中的工具，發(fā)揮著重要作用。一、薄膜厚度的測量方法薄膜厚度的測量方法主要有幾種，其中常見的包括光學干涉法、X射線反射法、納米壓痕法和原子力顯微鏡（AFM）法等。這些方法各有優(yōu)缺點，通常根據實際需求和膜層材料的特性來選擇合適的測量方法。1.光學干涉法：利用光在薄膜界面發(fā)生干涉現象來測量薄膜厚度。該...

2025年3月11-13日，慕尼黑上海光博會在上海新國際博覽中心圓滿收官。本屆展會為業(yè)界呈現了一場高層次的科技盛宴。同時，本屆展會從展示范圍的廣泛度、光電產品的豐富度、趨勢傳遞的新穎度、交流合作的深入度等方面充分展現了全球化浪潮下，光電行業(yè)正通過技術創(chuàng)新、國際合作、產業(yè)鏈整合等方式得到快速發(fā)展的態(tài)勢，贏得了行業(yè)企業(yè)和合作伙伴的高度認可和贊譽。精彩盛況展會風采展會期間人頭攢動，頤光科技作為光學薄膜及納米結構測量解決方案提供商，本次展會攜核心技術產品光譜橢偏儀、反射膜厚儀及光學膜...

慕尼黑上海光博會將于2025年3月11-13日在上海新國際博覽中心盛大召開。2025年正值慕尼黑上海光博會20周年，作為亞洲激光、光學、光電行業(yè)的年度盛會，本屆展會以“躬耕不輟，智啟新程”為主題，超過1400家展商將齊聚申城，共同探索光電產業(yè)的未來發(fā)展方向。展會邀請函頤光科技將攜核心技術產品和解決方案參展，我們誠摯邀請各位新老朋友蒞臨頤光展臺，希望通過此次機會與業(yè)內同仁、專家們共同交流探討、共商合作、互利發(fā)展。展館平面圖頤光科技展位：E7館7472產品介紹關于我們武漢頤光科技...

在材料科學與半導體領域不斷探索創(chuàng)新的征程中，橢圓偏光儀憑借其光學測量原理，正發(fā)揮著不可替代的關鍵作用，為這些領域帶來諸多創(chuàng)新應用。1、在材料科學領域，橢圓偏光儀成為研究材料微觀結構與光學性質的得力助手。對于新型納米材料，它能精確測量材料的厚度、折射率等參數。比如在二維納米材料研究中，通過偏光儀可以無損且高精度地確定石墨烯等材料的層數。由于不同層數的石墨烯光學性質存在細微差異，偏光儀能夠敏銳捕捉這些變化，為材料的制備與性能優(yōu)化提供關鍵數據支持。2、在材料表面和界面研究方面，偏光...

紅外橢偏儀是一種高度精密的光學分析儀器，主要功能是在紅外光譜范圍內對材料進行無損表征。它通過測量材料對紅外光的反射或透射過程中偏振狀態(tài)的變化，從而推斷出樣品的諸多物理屬性，如介電常數、光學性質、薄膜厚度等。作為一種先進的光學測量工具，紅外橢偏儀能夠以非破壞性的方式獲取材料的多種物理性質。具體而言，它可以精確測量如下幾類關鍵物理量：1、光學常數：包括復折射率（實部n與虛部k）、吸收系數α。這些參數對于理解和預測材料的電磁行為至關重要，如色散關系、反射率、透射率等。2、薄膜厚度：...

光譜橢偏儀（SE）是一種高精度的光學測量儀器，廣泛應用于薄膜材料的表征與質量控制。通過測量反射光的偏振變化，光譜橢偏儀能夠提供薄膜的厚度、折射率、消光系數等重要參數，進而評估薄膜的光學性質、表面質量以及結構特征。近年來，隨著薄膜技術的進步，橢偏儀在薄膜質量控制中的應用取得了顯著的創(chuàng)新性進展。1、薄膜厚度與光學常數的精準測量橢偏儀常見的應用是薄膜厚度和光學常數的測量。在薄膜的生產過程中，厚度控制對于其性能至關重要。例如，在半導體制造中，薄膜的厚度直接影響器件的電學性能和可靠性。...