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首頁-技術文章-橢偏儀在測量折射率和薄膜厚度中的應用

橢偏儀在測量折射率和薄膜厚度中的應用

更新時間:2023-10-30      點擊次數:1307
  橢偏儀是一種重要的光學儀器,在材料科學、光學薄膜、半導體等領域有著廣泛的應用。主要由光源、偏振器、樣品臺、檢偏器、光電探測器等組成。其工作原理是通過調節入射光的偏振方向和偏振態,然后測量樣品對光的反射和透射光的偏振狀態變化,從而推導出樣品的折射率和薄膜的厚度。
 
  接下來,我們將詳細解釋如何利用橢偏儀測量薄膜厚度,并介紹不同類型薄膜的厚度測量方法。
 
  一、測量折射率:
 
  單層材料的折射率測量:在測量單層材料的折射率時,可以通過橢偏儀測量樣品對光的反射和透射光的振幅比、光相位差等參數,然后根據材料的光學模型,利用數學方法計算出折射率值。
 
  多層薄膜的折射率測量:通過調節參數,如入射角度和波長等,可以實現對多層薄膜的反射和透射光的測量。然后,利用多層薄膜的傳輸矩陣方法或模擬退火算法等數學模型進行計算,得到多層薄膜的折射率。
 
  三、測量薄膜厚度
 
  單層薄膜的厚度測量
 
  對于單層薄膜的厚度測量,可以通過橢偏儀測量樣品對光的反射和透射光的相位差等參數,然后根據樣品的光學性質,利用數學模型進行計算,推導出薄膜的厚度值。
 
  多層薄膜的厚度測量
 
  多層薄膜的厚度測量需要更復雜的計算方法。通過測量多層薄膜的反射和透射光的振幅比、相位差等參數,并結合多層薄膜的光學模型,進行數學計算,推導出薄膜的厚度信息。
 
  橢偏儀具有非接觸式、快速、準確等優點,可以在不破壞樣品的情況下進行測量。它在材料科學、光學薄膜設計、半導體器件等領域有著廣泛的應用前景。例如,在光學薄膜設計中,可以用于優化薄膜層序、監控薄膜生長過程等。隨著技術的不斷進步,在測量折射率和薄膜厚度方面的應用前景將更加廣闊。
 

橢偏儀

 

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